其他新的曝光用途等紫外线灯2KW

用途:レンズの接着、光学レンズの接着、光ファイバーの接着、電子部品の仮組立・封止など。塗装・コーティングに。乗用車塗装補修、ルアー・釣竿の表面塗装、木工芸品の塗装、店舗やホテルの塗装短時間施工、プリント基板の保護コート、装飾織物の表面コート(帯地の金箔)、FRPの補修、屋外構築物の部分補修など。印刷・マーキングに。電子部品のマーキング、銘版印刷、シール・ラベル印刷、プラスチックフィルム・カードの印刷の部分補修など。半导体紫外线灯，让微小世界尽在掌握。其他新的曝光用途等紫外线灯2KW

ORC 直流电源,型号：BDE-123ND，功率：12KW；适用于FX-51S，FX-61S,FX-63 TFT黄光曝光设备。

外形尺寸300(宽)×715（高）×600mm（深)

1.入力电源电压：200/208/220VAC±10％（自动切替）相数：3相3线周波数：50/60Hz（自动切替）稳定电流：50A以下突入电流：100A以下端子台番号：TB1端子台番号(CHAMBER侧)：TB649端子台螺丝：M6

2.LAMP输出控制方式：可以定电力控制方式和定照度控制方式切换稳定输出：1200W(定电力时)电压：LAMP点灯初期4分钟限制80±5A以下LAMP点灯4分钟过后，依存LAMP电压，最大电流限制在120A±5A以下端子台番号：TB2端子台螺丝：M8 低压汞灯紫外线灯160Z22AL高压汞灯能量无限，金属卤素灯照亮你的工业王国。

扫描步进投影曝光（Scanning-Stepping Project Printing）。90年代末至今，用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4：1的比例曝光，曝光区域（Exposure Field）26×33mm。优点：增大了每次曝光的视场；提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性。但是，同时因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求。d. 高精度双面：主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。高精度特制的翻版机构、双视场CCD显微显示系统、多点光源曝光头、真空管路系统、气路系统、直联式无油真空泵、防震工作台等组成。适用于φ100mm以下，厚度5mm以下的各种基片的对准曝光。

高压短弧汞灯又称高压汞灯，ORC制作所有30年以上制造经验。

点亮汞灯需要高压启动器配合，目的是提供20KV电压，用于击穿汞灯的阳极/阴极之间的绝缘状态，使其在灯球内形成短路状态，持续放射出电弧。

电源提供电子，运动方向由正电荷移动到负电荷，电子和汞蒸气原子在灯球内相互碰撞，产生热量，100KPa以上的膨胀高压，持续发出紫外线平行光。

根据产品所需紫外线光种类，调整汞液体的充填量和充填稀有气体种类。

波长分布设计跨度UVA，UVB，UVC。 i线步进式光刻机NSR-2005i8用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯，功率:2KW,型号：NLi-2000A-1。

半导体领域使用光刻机有5类：G线光刻机，使用高压汞灯作为光源，紫外线波长为436nm，产品分辨率500nm以上；I线光刻机，使用高压汞灯作为光源，紫外线波长为365nm，产品分辨率28nm以上；氟化氪(KrF)光刻机，使用氟化氪准分子激光(DUV)作为光源，紫外线波长为248nm，产品分辨率180nm；氟化氩光刻机，使用氟化氩准分子激光(DUV)作为光源，紫外线波长193nm；EUV光刻机，使用13.5nm极紫外线，产品分辨率，分辨率可达7nm；敝司代理光刻机使用的I线365nm高压汞灯紫外线。超高压汞灯、金属卤素灯，紫外线消毒，工业生产更安心。紫外线灯佳能曝光机MPAsp-E813反光镜

强劲光明，金属卤素灯带你迈向更明亮的未来。其他新的曝光用途等紫外线灯2KW

曝光机设备上配置椭圆镜，镜面有做涂层处理。椭圆镜作用是协助光源发出的紫外线波长(365nm，405nm，436nm)无法穿过椭圆镜的镜面，紫外线光反射回来，500nm以上的红外线透过椭圆镜的镜面，释放掉热量。灯箱内常时通入氮气，吹向冷却紫外线灯及椭圆镜，降低灯箱内氛围温度，通过常时排气，带着多余热量，是高压汞灯稳定工作。佳能面向FPD工厂的曝光机，设备型号：MPAsp-E813，MPAsp-H803，MPAsp-H763，内部标配椭圆镜，型号：Y60-5340-000。其他新的曝光用途等紫外线灯2KW